培育钻石化学沉积法介绍

化学沉积法(CVD)是将晶种置于真空腔体内，通入含氮、甲烷和氢的含碳混合气体，其中甲烷是合成钻石碳原子的来源、而氮则其催化作用，提高钻石生长速度，氢可以抑制石墨的形成，在高温等离子的作用下，含碳气体被离解，碳原子在钻石基底上沉积成钻石膜，其制备流程为：

1)抽真空：在CVD设备基座上放置钻石衬底(晶种)，将腔内气压抽至0.1个大气;

2)通气加热：向真空腔内通入含氮、甲烷和氢的含碳混合气体，并利用微波束加热形成等离子体;

3)沉积：气体在成为等离子体的过程中碳原子会向钻石晶种靠近，慢慢在其表面上沉积出一层钻石薄膜。