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培育钻石化学沉积法介绍

化学沉积法(CVD)是将晶种置于真空腔体内,通入含氮、甲烷和氢的含碳混合气体,其中甲烷是合成钻石碳原子的来源、而氮则其催化作用,提高钻石生长速度,氢可以抑制石墨的形成

化学沉积法(CVD)是将晶种置于真空腔体内,通入含氮、甲烷和氢的含碳混合气体,其中甲烷是合成钻石碳原子的来源、而氮则其催化作用,提高钻石生长速度,氢可以抑制石墨的形成,在高温等离子的作用下,含碳气体被离解,碳原子在钻石基底上沉积成钻石膜,其制备流程为:

1)抽真空:在CVD设备基座上放置钻石衬底(晶种),将腔内气压抽至0.1个大气;

2)通气加热:向真空腔内通入含氮、甲烷和氢的含碳混合气体,并利用微波束加热形成等离子体;

3)沉积:气体在成为等离子体的过程中碳原子会向钻石晶种靠近,慢慢在其表面上沉积出一层钻石薄膜。

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